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详细介绍
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
|---|
●支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度
●使用反射光谱分析薄膜厚度
●实现非接触、非破坏的高精度测量，同时体积小、价格低
●简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
●通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等，可以进行多种膜厚测量。
●非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。
绝对反射率测量
膜厚分析（10层）
光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）
功能膜、塑料
透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、胶粘剂、保护膜、硬涂层、防指纹， 等等。
半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等。
表面处理
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。
光学材料
滤光片、增透膜等。
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、封装材料）等
其他
HDD、磁带、建筑材料等
大冢电子利用光学干涉仪和自有的高精度分光光度计，实现非接触、无损、高速、高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是一种使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法，如图 2 所示。以涂在金属基板上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外，穿过薄膜的光在基板（金属）和薄膜界面（R2）处被反射。测量此时由于光程差引起的相移所引起的光学干涉现象，并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法和优化法。
| 类型 | 薄膜型 | 标准型 |
| 测量波长范围 | 300-800nm | 450-780nm |
| 测量膜厚范围 （SiO 2换算） | 3nm-35μm | 10nm-35μm |
| 光斑直径 | φ3mm / φ1.2mm | |
| 样本量 | φ200×5（高）mm | |
| 测量时间 | 0.1-10s内 | |
| 电源 | AC100V ± 10% 300VA | |
| 尺寸、重量 | 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤 | |
| 其他 | 参考板，配方创建服务 | |
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