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详细介绍
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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●膜厚测量范围1nm～92μm（换算为SiO2）
●膜厚值高重复精度
●1点1秒以内的高速测量
●最小小点Φ3μm）中瞄准模式
●最zui适shi合图案晶片的膜厚映射
●能够取得图案对准用图像
CMP工艺
蚀刻工艺
成膜工艺等
上海波铭科学仪器有限公司主要提供光谱光电集成系统、晶萃光学机械和光学平台、激光器、Edmund 光学元件、Newport 产品、滨松光电探测器、卓立汉光荧光拉曼光谱仪、是德 Keysight 电学测试系统、大塚 Otsuka 膜厚仪、鑫图科研级相机、Semilab 半导体测试设备及高低温探针台系统。经过多年的发展，上海波铭科学仪器有限公司在市场上已取得了一定的地位。我们的产品和服务在行业内具有较高的知zhi名度和美誉度，客户遍布全国。我们将继续努力，不断提升市场地位和影响力。
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